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NLD-4000 (M) 原子层沉积系统
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NLD-4000(ICPM)PEALD原子层沉积系统
%温度:200°C折射率:1.67 原子层沉积技术 NLD-4000(ICPM)PEALD系统概述:原子层沉积是一项沉积薄膜的重要技术,具有广泛的应用。ALD原子层沉积可以满足精确膜厚控制以及高深宽
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NLD-4000 (A) ALD全自动原子层沉积系统
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NLD-4000 (ICPA) PEALD系统
NLD-4000(ICPA)全自动PEALD系统特点:NLD-4000(ICPA)是一款全自动独立的PC计算机控制的PEALD原子层沉积系统,带Labview软件,具备四级密码控制的用户授权
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NLD-3000 ALD原子层沉积系统
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NLD-3500 (A) 全自动原子层沉积系统
NLD-3500(A)全自动原子层沉积系统特点:NLD-3500(A)是一款全自动独立的PC计算机控制的ALD原子层沉积系统,带Labview软件,具备四级密码控制的用户授权保护功能。系统为
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NPE-4000 (M) 等离子体化学气相沉积系统
CNT(碳纳米管)和石墨烯的选择性生长:在需要的位置生长CNT或石墨烯。 NPE-4000(M) PECVD等离子体化学气相沉积系统,具有分形气流分布的优势.样品台可以通过RF或脉冲DC产生偏压
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原子层沉积系统(ALD)
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NTE-4000 (M) 热蒸发系统
计算机控制的单蒸发源台式系统 NANO-MASTER NTE-4000是一款PC计算机控制的台式热蒸发系统,在有机物和金属沉积方面具有广泛的应用。 最大可支持7”的方片或200mm的晶圆片
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磁控溅射系统NSC-4000 (M)
基板支持加热(最高可达800°C)或冷却支持旋转GLAD斜角入射沉积腔体尺寸可定制1.5-5KW脉冲之流电源用于ITO/ZnO等类似材料 NANO-MASTER的溅射系统可构建成多腔体和多
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